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中国科学院陈宝钦研究员学术报告

  发表日期:2017年5月9日    阅读:344 

中国科学院微电子研究所陈宝钦研究员

讲座内容简介

时间516日上午1010,地点:物111报告厅

题目:《微光刻与电子束光刻技术》

1) 微光刻技术的发展历程,光学光刻技术,光学光刻分辨率增强技术,光学光刻如何一次又一次突破光刻分辨率极限,达到亚十纳米尺度。

2) 电子束光刻极限在纳米CMOS集成电路研制和微纳米加工技术中的应用,电子束光刻工艺技术,电子抗蚀剂工艺技术,微纳加工数据处理技术。

3) 微电子技术的发展与展望,中国集成电路制造业的发展,摩尔定律什么时候失效的问题,深化摩尔、拓展摩尔和超越摩尔。

4) 和同学们交流谈谈:做人要正直,做事要勤奋,做学问要踏实;做好每一件简单的事减少不简单,做好每一件平凡的事减少不平凡;低下头,从脚下最不起眼的路走起!

 

教师简介:

陈宝钦,博士生导师,中科院微电子研究所研究员,兼职中国科学院大学教授北京电子学会半导体专业委员会副主任、制版分会主任全国半导体设备与材料标准化技术委员会副主任、微光刻分委会秘书长;全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长;中国科学院老科技工作者协会理事、微电子分会理事长、科学讲师团成员。多年来一直从事光掩模与先进掩模制造技术电子束光刻技术微光刻与微纳米加工技术研究和开发工作。在参加和合作开展的各项科研活动中获多项科技奖,分别于1979年至2013年间先后获国家科技进步奖二等奖项和国家技术发明奖三等奖一项;航天科工集团、北京市和中国科学院科技进步奖一等奖项、二等奖2013-2016年度中国科学院教育教学成果奖特等奖。先后为《中国大百科全书》撰写掩模制作技术;为《现代高技术丛书》撰写微细图形加工技术;并参加《世界最新集成电路》大型集成电路工具书编译工作,任副主编;策划并合作编写《高等院校电子技术教材-TANNER集成电路设计教程》;为国家自然科学基金委组织科学出版社出版的《半导体科学技术》撰写微光刻与微纳米加工技术;为中国军事百科全书撰写微电子学与纳米电子学;为中国科学院《高技术发展报告》撰写集成电路工艺与设计技术最新进展为《集成电路工业全书》撰写掩模制造设备。受国家技术监督局委托负责起草并制定多项微光刻技术国家标准。发表或者合作发表论文有《中国光掩模制造与光刻技术现状及发展趋势》和《微光刻与微纳米加工技术》等100篇。


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